Fedezze fel 4. generációs Retinol komplex új szintű hatékonyságát és biztonságát, amely nagy tisztaságú, 99%-os koncentrációt tartalmaz.
Az LHA-val dúsított formula finoman hidratálja és kisimítja a bőr textúráját, komfortérzetet és ápolást biztosítva anélkül, hogy megterhelődne a bőr.
Gyártási hely: Koreai Köztársaság
Nettó tömeg: 350g
Összetevők: Water, Glycerin, Glycereth-26, Maltitol, Sorbitol, 1,2-Hexanediol, Hydroxypropyl Starch Phosphate, Sodium Polystyrene Sulfonate, C12-14 Alketh-12, Trehalose, Hydroxyacetophenone, Xanthan Gum, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Caprylyl Glycol, Arginine, Ethylhexylglycerin, Centella Asiatica Extract, Melia Azadirachta Leaf Extract, Disodium EDTA, Fragrance, Butylene Glycol, Diospyros Kaki Leaf Extract, Vitis Vinifera (Grape) Fruit Extract, Coffea Arabica (Coffee) Seed Extract, Carthamus Tinctorius (Safflower) Flower Extract, Polygonum Cuspidatum Root Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Castanea Crenata (Chestnut) Shell Extract, Zanthoxylum Piperitum Fruit Extract, Melia Azadirachta Flower Extract, Bakuchiol, Dimethyl Isosorbide, Sodium Hyaluronate, Hydroxypinacolone Retinoate, Polyglyceryl-10 Laurate, Lecithin, Polysorbate 20, Palmitoyl Tripeptide-1, Palmitoyl Pentapeptide-4, Hexapeptide-9, Acetyl Hexapeptide-8, Retinol, Madecassoside, Madecassic Acid, Asiaticoside, Asiatic Acid, Propolis Extract, Tripeptide-1, Copper Tripeptide-1
Hogyan kell használni: Tisztítsa meg az arcbőrt és tonizálja. Óvatosan vegye ki a maszkot a csomagolásból. Helyezze a maszkot az arcára. Hagyja hatni 10 - 20 percig. A maszkból az arcon maradt esszenciát masszírozza az arcbőrbe vagy a nyak bőrébe.
